14nm / 10nm FinFET LPU，Samsung Electronics 再推新製程技術

Samsung Electronics 在製程部分與 TSMC 互有抗衡，但營收就…

11 月 3 日，Samsung Electronics 釋出新聞稿，宣布推出第四代 14nm FinFET 與第三代 10nm FinFET 製程技術。

在 14nm FinFET 方面 Samsung Electronics 提供 LPE（Low-Power Early）、LPP（Low-Power Plus）、LPC（Low-Power Compact）以及最新的 14nm FinFET LPU 製程；10nm FinFET 則是從 LPE、LPP 到最新的 LPU 製程。

Samsung Electronics 14nm FinFET LPU 主要使用應用於高效能與密集型運算應用市場。

簡單來說，LPE 推進至 LPP 是功耗與效能的改善，LPC 與 LPU 是在 LPE 的效能基準下，將成本分別再往下做出調整的產品。14nm FinFET LPU 與 10nm FinFET LPU 相關製程設計工具（PDK）預計會在 2017 年第二季度釋出了；Samsung Electronics 在 10 月份公佈 10nm FinFET 製程 SoC 進入量產。

另一方面，Samsung Electronics 同時更新 7nm EUV 製程開發進度，並展示 7nm EUV 的晶圓。